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超純水傳統的制備工藝是采用陰陽樹脂交換設備，該工藝的缺點在于樹脂在使用一段時間以后要經常再生。隨著膜分離技術的不斷成熟，常采用反滲透工藝，或是采用反滲透后面再經過電去離子EDI工藝、拋光混...
集成電路是一種微型電子器件或部件，它對于清洗用水的水質有著很高的要求，一旦清洗用水中含有雜質，就會產生水垢，影響其電阻率，影響其成品率，超純水設備生產的超純水電阻率可達到18 MΩ*cm(25℃)，符合集...
與混床相比，在相同流量處理能力的情況下，EDI超純水系統占地面積要小得多，約為混床的1/10。這種對用戶友好的設計是通過消除巨大的再生存儲和廢水中和系統來實現的。...
EDI超純水設備具有較高的性價比和設備可靠性。出水水質除水分子外幾乎不含雜質，電阻率可達18mΩ·cm，滿足芯片生產用水需求。...
超純水系統采用反滲透技術+EDI+拋光混床系統制備超純水。它是一種純物理過程的制備技術。其出水電阻可達18mΩ·cm(25℃)，具有長期不間斷運行、自動運行、操作簡單、水質穩定、無污染物、成本低等...
EDI超純水設備用以生產制造純水，不用再造化工品，運作低成本。EDI系統自動化程度高，可以連續工作。出水量水體優良平穩，出水量電阻低≥15mΩ·cm。...
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