近年來，中國的半導體產(chǎn)業(yè)發(fā)展迅速。作為科技產(chǎn)業(yè)的底層支撐和未來科技發(fā)展的基石，其發(fā)展趨勢受到了社會各界更多的關注，在智能電子、玩具、新能源汽車、人工智能等方向都有重要應用。由于半導體相關基礎設施的建設周期長、技術要求高，企業(yè)必須制定長期戰(zhàn)略，某些細分領域的企業(yè)爭相開發(fā)更優(yōu)質(zhì)的工藝，參與半導體產(chǎn)業(yè)市場競爭。為了進一步推進數(shù)字革命，需要更強大的計算和存儲能力，換句話說，需要更優(yōu)質(zhì)的芯片。制造更優(yōu)質(zhì)的芯片的基礎是使用更高的水質(zhì)，而超純水已成為企業(yè)競爭的制勝法寶。

　　超純水的水質(zhì)直接關系到半導體成品率

　　在半導體生產(chǎn)中，超純水可用于晶圓漂洗、化學稀釋、化學機械研磨、潔凈室環(huán)境的加濕源等。超純水的質(zhì)量直接關系到半導體的成品率，隨著半導體元件尺寸的縮小和細度的提高，對超純水質(zhì)量的技術要求也在不斷提高。

　　在超純水生產(chǎn)過程中，只要微粒子、電阻率和TOC與氣泡中的某一指標稍有差異，就會使半導體元件生產(chǎn)的合格率下降。

　　超純水設備發(fā)展前景廣闊

　　傳統(tǒng)的超純水制備工藝通常采用離子交換樹脂制備，但離子交換樹脂停止生產(chǎn)需要樹脂再生，高能耗也增加了勞動力成本。經(jīng)過多年的實踐，超純水設備結合膜分離技術，利用反滲透結合EDI裝置制備超純水，出水電阻率可達18.2MΩ.cm(25℃)，滿足半導體生產(chǎn)用水的需求。同時，設備還配備了反滲透預脫鹽技術，以確保設備的出水水質(zhì)。同時，EDI處理裝置產(chǎn)生的廢水較少，不會污染環(huán)境，具有較高的環(huán)境效益和經(jīng)濟效益，具有廣闊的發(fā)展前景。

　　超純水設備具有連續(xù)出水、無需酸堿再生和無人值守、安裝簡便、操作方便等優(yōu)勢，出水水質(zhì)符合電池用水相關標準，為半導體用水保駕護航。隨著超純水設備技術不斷完善，開啟了各行業(yè)生產(chǎn)發(fā)展的新局面。許多企業(yè)在生產(chǎn)過程中對水質(zhì)純度有不同的要求，并得到了廣泛的應用，如清洗設備用水、精密產(chǎn)品生產(chǎn)用水、檢測用水等。

　　結語

　　作為半導體工業(yè)生產(chǎn)的重要基石，超純水設備是半導體制造端的重中之重。超純水設備改善了傳統(tǒng)工藝階段供水的缺點，配備了濃縮水置換的專業(yè)技術，防止微生物對膜系統(tǒng)的污染。通過完善的技術，提高系統(tǒng)回收率，降低能耗和運行成本。