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萊特萊德經常采用反滲透工藝，或反滲透后再采用EDI和拋光混床工藝生產超純水，出水電導率可達18.2MΩ，滿足芯片行業用水需求。...
電子晶圓行業超純水設備現階段正從晶圓的基本水平起，執行維護晶圓純凈度的崗位職責，不斷平穩地制取達到晶圓生產制造需用的超純水系統，產水量電導率可達18MΩ·CM(25℃)。...
EDI超純水設備用以生產制造純水，不用再造化工品，運作低成本。EDI系統自動化程度高，可以連續工作。出水量水體優良平穩，出水量電阻低≥15mΩ·cm。...
萊特萊德超純水設備選用膜分離技術加工工藝，可以確保出水水質平穩，自動式的運作方法可以節約人力、控制成本，出水水質平穩實現了國家飲用水的規范。...
萊特萊德半導體行業超純水設備包括預處理系統、超濾系統、軟化系統、反滲透系統、EDI系統、終端給水系統等六大系統。具有平面布置合理高效，純水供回水管路上設置電導率及流量計，供回水管路上的流...
萊特萊德EDI超純水設備產出超純水電阻率可達到18 MΩ*cm(25℃)，可完全應用于芯片制造業。未來，不僅僅是科技時代，更是環保綠色的時代。...
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